富士超聲波流量計選型樣本，TR-N7/3
確定射線照片有用性的因素包括對比度、清晰度和密度。
“對比”一詞是指X光片的*密度和*小密度之間的差異。
它也可以指圖像中密度變化的程度。
無線電波的對比通過膜對比和受試者對比的組合來表達pH。
影響X光片圖像清晰度的因素列于表7。
銀粒隨著千伏電壓的增加而變粗，而熒光屏時這種趨勢更為明顯。
都是用的。在制作用于詳細檢查標本的X光片時，應適當考慮這些因素。
為了無損檢測使用射線照片的密度，必須保持在固定水平。
非屏蔽型薄膜中的定義隨著密度的增加而增加。
根據相對于輻射源、樣本和薄膜的位置的幾何布置，
射線照片中的圖像可以被放大和扭曲。圖像MAG的原因硅化和變形列于表8中。
未曝光的X射線膠片容易受到化學物質、熱量、水分、機械壓力、
可見光和輻射(如x射線和伽馬射線)的影響，這些射線需要格外小心。
工業X射線膠片通常存儲在輻射源附近,以便為它們所預期的目的提供服務,
但在這方面比射線更敏感于射線。其它類型的敏感材料。
在未曝光的工業X射線膠片的存儲中，*重要的是提供對輻射的充分保護。
鉛襯容器應當未曝光的膠卷和裝好的盒式磁帶存放在X光室時使用.
暗室必須與x光或放射源室用隔墻隔開，這樣才能完全舒展。不發出輻射。
由于工業X射線膠片對熱和濕氣非常敏感，應選擇陰涼干燥處進行儲存。
儲存溫度應保持在10-15°C（50-59°F）左右。
富士印度試驗X射線膠片被封裝在交錯的紙文件夾中，
并被密封在不透光的防潮的信封中，
以便在從這些信封中取出之前它們相對安全地免受濕氣的影響。
奧佩。然而，一旦膜被從信封上移除，乳劑就會吸收水分，
直到它與周圍空氣的含水量達到平衡為止。
In相對濕度工業X線片處理應在60%至70%之間.
另一方面，過度干燥不適合存放工業x光膠片，
因為在這些地方，膠片可能變成焦炭。
帶靜電導致X線片上的痕跡。
從信封中取出的X光膜應包裹在空氣緊密的乙烯基布中，
并保存在冷藏下，以便去除。d使用前幾個小時，
允許站立直到達到室溫的平衡。
如果這類薄膜的溫度與周圍空氣的溫度不同，
則可能會產生濕氣。在膜表面上致密。
當暴露于拋光金屬表面、涂漆表面、稀釋劑、
過氧化氫、煤氣、硫化氫、氨氣、汞蒸汽、*、ENG時，
工業X射線膠片可能會產生霧。
包括廢氣、乙炔和TerpenE。
應提供防止這種霧的發生，這種霧被稱為假攝影效果。
當強烈摩擦時，乳膠層會被劃傷，因此在處理后的X光片中會出現黑色條紋。
在收音機里可以看到一個看上去像新月的影子，通常被稱為扭結標記。
膠片折疊時的圖形。一般來說，曝光前膠片上的折痕似乎比周圍區域的密度要低，
而曝光后的折痕似乎有一個高密度。Gher密度大于周圍地區。
機械壓力也同樣影響薄膜。可避免因接觸受加工化學品污染的手指而造成的痕跡。
戴著薄而柔軟的棉手套。應避免使用合成纖維制成的手套或合成纖維與棉混紡的手套，
因為它們可能會造成靜電痕跡出現在上面。
暗室的空間應該由在那里做的工作量來確定，但是一般來說，
當足夠寬以允許兩個時，可以實現高效率的操作。
三個人同時在一起工作。暗室必須完全不受輻射的影響。
暗室的內表面應采用一種材料處理,該材料
裝載暗室應配備膠片容器、盒和膠片架儲存裝置，以及裝載臺。
裝載暗室應始終保持干凈，無水和水和化學品。
sinister (Latin=left) （拉丁語）左邊（的），左派（的）
處理槽、清洗槽、吊架和工作臺應設置為便于薄膜處理。
強制通風是必要的,因為空氣容易受到熱的污染,以及潮濕的處理暗室。
空調也可能是必要的，以保持空氣干燥。
在敏感材料受到影響的區域之外的具有光譜性質的光被用于安全照明。
FujiSafelight濾鏡SLG8U（彩色暗紅色）建議在暗房中使用。
富士工業X射線膠片光譜靈敏度與富士濾光片光譜透射因子的關系如圖27所示，LG8U安全燈。
工業X射線膠片應處理在至少1米的距離富士過濾器SLG8U安全燈，
其中100伏，15或20瓦燈是I。合股。保險燈可在正常情況下開啟10至15分鐘，對X光片沒有任何不利影響。
安全燈在使用中的安全性可以通過以下方式進行測試。
一張工業X射線膠片放置在其正常的處理位置，并用一張黑紙覆蓋。
黑色的。紙張每隔5分鐘移動一次，使X光膠片以一步一步的方式暴露在安全之光下，
而未曝光的部分則被留下。當測試X光片在標準條件下處理時，
從處理過的膜中可以看出，在不引起膜中的霧的情況下，
應允許安全燈保持接通多長時間。應檢查安全濾光片是否變色或褪色。
如果必要的話，由于來自白熾燈、濕度和化學品的熱量的影響，
它們可能會變色或褪色。
處理液要么是堿性的，要么是酸性的，因此處理槽必須是堿的或耐酸的。
適用的材料包括不銹鋼，塑料和搪瓷器皿。塑料類塑料容器的導熱系數很低，
適合于使已被加熱的加工溶液保暖，但這種容器的含量不能很快達到。
或從外部冷卻的。不銹鋼為防止腐蝕提供了充分的保護，并提供了廣泛的溫度控制。
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